在半导体器件、集成电路、薄膜电路、印刷电路以及各种微细图形加工应用中，都会见到刻蚀工艺。今天干式螺杆真空泵厂家与大家分享的小知识则是关于其中的一种刻蚀工艺——离子束刻蚀。

刻蚀工艺有光刻蚀、X射线刻蚀、电子束刻蚀以及离子束刻蚀等。而离子束刻蚀则是其中一种较为新型的超精细加工技术。它利用离子束轰击固体表面时产生的溅射效应在玻璃加工器件上形成所需要的几何图形。再具体地说，就是利用辉光放电原理，将氩气充入离子源放电室分解为氩离子，然后由栅极将离子呈束状引出经过阳极电场加速，射向工件固体表面轰击其表面原子，使其发生溅射，进行刻蚀。工件表面有制备沟槽的掩膜，最后裸露的部分就会被刻蚀掉，而掩膜部分则被保留，形成所需要的沟槽图形。

离子束刻蚀是一种纯物理刻蚀工艺。它需要在6×10^-3Pa或更低的真空压力下，引入氩气，并保持真空度在1×10^-2Pa～6×10^-2Pa，然后再启动离子源。因此真空系统必不可少，此外还包括离子源、工件台、快门、电气系统、供气系统、水冷系统等。离子束刻蚀具有超精细的加工能力，甚至可以刻出0.008µm的线条，并且对加工材料没有选择性，可以加工导体、半导体、绝缘体等各种材料，刻蚀方向性好、分辨率高，加工灵活，因此在各种集成电路、声表面波器件、磁泡存储器、集成光学等产品的精细沟槽图形刻蚀方面得到广泛应用。在具体的应用中，离子束刻蚀又可分为溅射刻蚀、反应刻蚀、混合刻蚀三种类型。

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