真空镀膜相比传统镀膜不仅更环保，而且膜层附着性更好，广泛应用于电子、半导体以及一些材料的表面硬化处理等方面。无论是那种真空镀膜方式，它都需要在较高真空度下进行。它为什么是必须的呢，螺杆真空泵厂家来告诉您。

真空镀膜的方式多种多样，不论是蒸发镀膜，还是溅射镀膜，或者离子镀膜、卷绕镀膜，其核心的镀膜工艺过程都需要在10^-2～10^-4Pa，甚至更高的真空环境下进行。需要真空环境的原因，主要涉及两个方面：

真空镀膜过程中，薄膜材料需要通过蒸发或者粒子轰击使其成为分子或者原子，然后以较大的自由程做直线运动，碰撞待镀膜基片表面凝结后最终形成薄膜；如果镀膜室的真空度不够，就意味着残余的气体分子过多，薄膜材料分子平均自由程变小，抵达基片的过程中，会与残余的气体分子频繁发生碰撞，最终使薄膜材料的分子（原子）无法顺利抵达凝结成膜。

其次是，残余气体分子过多的情况下，薄膜材料分子（原子）凝结成膜时会夹杂大量其杂质气态分子，使薄膜的纯净度下降，进而影响膜层分子的附着性，使其牢固度下降，同时不纯的膜层更容易被氧化而产生其他杂质。

另外，像通过粒子轰击方式来获得薄膜材料分子（原子）的，本身就需要在真空环境下实现，以及离子清洗等过程也无法离开真空环境。

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