真空应用有关的离子束刻蚀中，加工质量与加工效率是工艺中的主要问题。这其中加工效率主要体现在刻蚀速率上。今天，螺杆真空泵厂家就和大家聊聊与离子束刻蚀速率有关的因素。

离子束刻蚀中，刻蚀速率是以单位时间内刻蚀的深度来表示的。总的来说，它与溅射率、到达表面的离子通量密度以及材料的原子密度有关。

首先是溅射率。刻蚀速率与溅射率成正比。具体的溅射率与入射离子的种类、能量、入射角度、靶材的种类、晶格结构、表面状态、升华热、温度以及残余气体的组分有关。通常，离子束刻蚀用的入射离子能量为300eV～2000eV。入射离子的能量增大则刻蚀速度增大，但表面损伤也会增大。

第二束流密度。刻蚀速率与束流密度成线性关系，是指束流密度和离子能量较低、溅射率不随束流密度变化而言。束流密度过高，可能破坏表面的某些物理化学状态，使溅射过程复杂化，从而使刻蚀速率偏离线性关系。

第三靶材的原子密集程度。离子束刻蚀的刻蚀速率与原子的密集程度成反比，即在相同的溅射率下，靶材密度高，原子量越小，刻蚀速率就越低。

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